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电镀添加剂中表面晶粒尺寸与光亮的关系

时间:2019-1-15 14:52:49 访问人数:
摘要:    人们生活中需要光亮表面的产品有很多,而在实际生产过程中一般采用机械打光、化学抛光、电化学抛光及使用电镀添加剂等方法来获得表面光亮的效果。在光亮电镀添加剂中镀层表面的光亮是与...

    人们生活中需要光亮表面的产品有很多,而在实际生产过程中一般采用机械打光、化学抛光、电化学抛光及使用电镀添加剂等方法来获得表面光亮的效果。在光亮电镀添加剂中镀层表面的光亮是与表面晶粒尺寸有很大关系的,本文接下来关于两者的关系进行简单的分析。


    在实际生产过程中产品表面的光亮是取决与表面的平滑程度的,而产品表面的平滑程度则是由很多因素决定的,比如像取向和择优取向的程度及晶粒的大小等,包括外来杂质的共沉积都有一定的影响。

光亮电镀添加剂

    虽然说产品表面平滑程度的影响因素有很多,但是最主要的就是晶粒的大小,而只有细小的晶粒才可以填平微观粗糙的表面,并且可以使其不产生粗糙度超过规定的大小的新表面。


    用户要想获得光亮的镀层,首先应该保证晶粒的尺寸都小于0.2μm,因为晶粒较大的话会出现缝隙,而缝隙则是沉淀物表面呈现乳白色、朦状或者不完全光亮的主要原因。其次要想获取细晶镀层,需要增大过电位和加入添加剂,增大过电位是指通过加入络合剂来使放电过电位较小的金属离子转化为电位更大的络合物。加入添加剂是指很多添加剂可以吸附在阴极表面而形成紧密的吸附层,来阻止金属络离子的放电过程,使阴极反应的过电位升高,从而获得细小而平滑的镀层。


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